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在電子元器件生產過程中,超純水設備關鍵作為清理用水及用于配置各種各樣水溶液、料漿,不同類型的電子元器件生產制造用水對的水質規定也不盡相同,所以大多數公司都選擇性價比比較高超純水設備。傳統超純水系統制得工藝采用的是陽陰環氧樹脂交換設備,該工藝的缺陷取決于環氧樹脂使用一段時間以后要定期再生。
伴隨著膜分離設備的持續完善,反滲透純凈水設備常選用反滲透工藝,或者選用反滲透之后再通過EDI及打磨拋光混床工藝來制得超純水系統,出水導電率之后可以達到18.2MΩ,滿足電鍍工藝涂裝行業的用水要求。